氫、氧等離子體處理對氮化硼薄膜場發射特性的影響 - 免費下載
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資源簡介
用RF磁控濺射的方法在Si（100）基底上沉積了納米氮化硼薄膜，然后分別用氫、氧等離子體對薄膜表面進行了處理，用紅外光譜、原子力顯微鏡、光電子能譜以及場發射試驗對薄膜進行了研究，結果表明氫等離子
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