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材料力學(xué)

  • 力源產(chǎn)品目錄-22.2.zip

    專輯類-元器件樣本專輯-116冊(cè)-3.03G 力源產(chǎn)品目錄-22.2.zip

    標(biāo)簽: zip 22 產(chǎn)品目錄

    上傳時(shí)間: 2013-04-24

    上傳用戶:xinyuzhiqiwuwu

  • 液晶的最新技術(shù)—物性.材料.應(yīng)用-350頁(yè)-8.2M.pdf

    專輯類-數(shù)字處理及顯示技術(shù)專輯-106冊(cè)-9138M 液晶的最新技術(shù)—物性.材料.應(yīng)用-350頁(yè)-8.2M.pdf

    標(biāo)簽: 350 8.2 液晶

    上傳時(shí)間: 2013-06-12

    上傳用戶:xcy122677

  • 金屬材料國(guó)標(biāo)合集-上-568頁(yè)-22.2M.pdf

    專輯類-國(guó)標(biāo)類相關(guān)專輯-313冊(cè)-701M 金屬材料國(guó)標(biāo)合集-上-568頁(yè)-22.2M.pdf

    標(biāo)簽: 22.2 568 金屬材料

    上傳時(shí)間: 2013-07-14

    上傳用戶:完瑪才讓

  • 金屬材料國(guó)標(biāo)合集-下-723頁(yè)-26.8M.pdf

    專輯類-國(guó)標(biāo)類相關(guān)專輯-313冊(cè)-701M 金屬材料國(guó)標(biāo)合集-下-723頁(yè)-26.8M.pdf

    標(biāo)簽: 26.8 723 金屬材料

    上傳時(shí)間: 2013-04-24

    上傳用戶:小楊高1

  • 多盤式無鐵心永磁同步電機(jī)分析與計(jì)算.rar

    盤式永磁同步電動(dòng)機(jī)是近年來發(fā)展起來的新型結(jié)構(gòu)高性能伺服電動(dòng)機(jī),具有軸向尺寸短、重量輕、體積小、結(jié)構(gòu)緊湊等特點(diǎn)。可以制成多定子多轉(zhuǎn)子交錯(cuò)組成的多盤式結(jié)構(gòu),進(jìn)一步提高轉(zhuǎn)矩,特別適合于機(jī)器人和大力矩直接驅(qū)動(dòng)裝置。同時(shí)由于結(jié)構(gòu)原因,盤式電機(jī)的徑向尺寸受到一定限制,半徑太大會(huì)增加加工工藝的難度,有時(shí)相關(guān)的尺寸數(shù)據(jù)難以保證,為提高電機(jī)的輸出功率,一般采用多盤式結(jié)構(gòu)。 目前永磁電機(jī)正向著大功率化、高功能化和微型化方向發(fā)展,其中高力能密度和高效率是對(duì)各類永磁電機(jī)設(shè)計(jì)所提出的共同要求。本文本著提高電機(jī)的輸出功率的目的,在總結(jié)各種盤式永磁同步電機(jī)的結(jié)構(gòu)、特點(diǎn)的基礎(chǔ)上提出了一種新型的基于Halbach陣列的多盤式無鐵心永磁同步電動(dòng)機(jī),從提高電機(jī)的功率密度入手,將無鐵心結(jié)構(gòu)和Halbach型永磁體陣列應(yīng)用到其中。利用釹鐵硼永磁材料高矯頑力的優(yōu)異特性以及Halbach陣列的高聚磁作用來提高電機(jī)氣隙磁密,使無鐵心電機(jī)變成可能,同時(shí)Halbach陣列使軛部的磁通減小,可相應(yīng)少用或不用軛部。電機(jī)重量因此可以大幅度下降,在一定程度上也可降低電機(jī)的成本。

    標(biāo)簽: 永磁同步電機(jī) 計(jì)算

    上傳時(shí)間: 2013-07-06

    上傳用戶:talenthn

  • 變速率語(yǔ)音編碼學(xué)習(xí)的一種材料.rar

    提供amr nb的程序和demo,是變速率語(yǔ)音編碼學(xué)習(xí)的一種材料

    標(biāo)簽: 變速 語(yǔ)音 編碼學(xué)

    上傳時(shí)間: 2013-06-14

    上傳用戶:wendy15

  • 真空滅弧室的磁場(chǎng)計(jì)算與分析.rar

    高中壓斷路器是電力系統(tǒng)中最重要的開關(guān)設(shè)備,用高中壓斷路器保護(hù)電力系統(tǒng)至今已經(jīng)歷了一段漫長(zhǎng)歷史。從最初的油斷路器發(fā)展到壓縮空氣斷路器,再到目前作為無油化開關(guān)的真空斷路器和SF6斷路器。其中真空斷路器以其小型化和高可靠性等優(yōu)點(diǎn),已在高中壓領(lǐng)域得到愈來愈廣泛的應(yīng)用。作為真空斷路器的核心部件,真空滅弧室的研究和開發(fā)顯得尤為重要。 真空滅弧室的小型化是國(guó)外關(guān)注的問題,我國(guó)很多相關(guān)的研究所和高等院校都曾作過不少研制工作,研究的方向是采用各種縱向磁場(chǎng)結(jié)構(gòu)電極的真空滅弧室和尋求新的觸頭材料。由于縱向磁場(chǎng)結(jié)構(gòu)的電極開斷能力強(qiáng),在額定短路開斷電流、設(shè)計(jì)裕度和工藝水平相同的情況下,縱向磁場(chǎng)的電極比橫向磁場(chǎng)的電極小得多。因此,采用縱向磁場(chǎng)結(jié)構(gòu)電極的真空滅弧室可以縮小整體尺寸。 本設(shè)計(jì)從真空滅弧室的具體模型出發(fā),應(yīng)用ANSYS8.1的電磁場(chǎng)分析軟件,對(duì)600A的真空滅弧室觸頭間的縱磁場(chǎng)進(jìn)行計(jì)算與分析,可得到接近實(shí)際的動(dòng)、靜觸頭電流流向矢量分布圖,線圈磁感應(yīng)強(qiáng)度與線圈幾何尺寸的關(guān)系,觸頭開距對(duì)磁場(chǎng)分布的影響及電弧在不同位置時(shí)的受力分析等。由不同線圈截面積與縱磁磁場(chǎng)強(qiáng)度的關(guān)系分布,可得出在分?jǐn)嚯娏鞑蛔兊那闆r下,線圈愈小磁場(chǎng)強(qiáng)度愈強(qiáng)。由觸頭開距與磁場(chǎng)強(qiáng)度的關(guān)系,可見觸頭間距越小,兩觸頭間越能獲得較大的磁感應(yīng)強(qiáng)度。對(duì)真空滅弧室極問磁場(chǎng)分布以及電弧在觸頭上不同位置受力進(jìn)行分析,結(jié)果表明隨著磁感應(yīng)強(qiáng)度變小,電弧受力也相對(duì)的變小。 通過ANSYS仿真分析,為真空斷路器滅弧室的設(shè)計(jì)提供了比較準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)資料。進(jìn)而使產(chǎn)品的設(shè)計(jì)、開發(fā)建立在較為科學(xué)的基礎(chǔ)上,為產(chǎn)品實(shí)際研制提供理論依據(jù)。

    標(biāo)簽: 滅弧 磁場(chǎng)

    上傳時(shí)間: 2013-06-20

    上傳用戶:dba1592201

  • 鐵磁材料損耗及高速軟磁復(fù)合材料電機(jī)的研究.rar

    準(zhǔn)確計(jì)算電機(jī)鐵耗一直是困擾電機(jī)設(shè)計(jì)者的一個(gè)難題。傳統(tǒng)方法是假設(shè)電機(jī)內(nèi)部磁場(chǎng)僅是交變磁化的,根據(jù)鐵磁材料在交變磁化條件下測(cè)量的數(shù)據(jù),計(jì)算電機(jī)齒部和軛部由基波磁場(chǎng)造成的損耗,對(duì)于計(jì)算值與實(shí)測(cè)值之間的誤差通過經(jīng)驗(yàn)系數(shù)來修正。這種方法對(duì)于已經(jīng)長(zhǎng)期制造和使用的電機(jī)而言勉強(qiáng)適用,對(duì)于近年來發(fā)展很快的永磁電機(jī)、高速電機(jī)和其他新結(jié)構(gòu)電機(jī),由于缺乏合適的經(jīng)驗(yàn)系數(shù),導(dǎo)致此方法難以適用。眾多研究人員的成果已經(jīng)證明電機(jī)的鐵耗有相當(dāng)一部分是由旋轉(zhuǎn)磁化導(dǎo)致的,因此顧及旋轉(zhuǎn)磁化的電機(jī)鐵耗計(jì)算模型是本文的一個(gè)重要內(nèi)容。 本文從鐵磁材料的鐵耗入手,先研究鐵磁材料在交變磁化和旋轉(zhuǎn)磁化方式下的計(jì)算和測(cè)量方法,目的是得到鐵耗分立模型中磁滯損耗、渦流損耗和異常損耗的計(jì)算系數(shù)。本文提出并實(shí)現(xiàn)了數(shù)字式的25cm愛潑斯坦方圈測(cè)試系統(tǒng),它可以測(cè)量在任何頻率和波形電源供電下硅鋼片的損耗,本文還在二維鐵耗測(cè)試系統(tǒng)中對(duì)硅鋼片在圓形旋轉(zhuǎn)磁化條件下的損耗進(jìn)行了測(cè)量。結(jié)果表明,在同樣頻率和磁密的條件下,旋轉(zhuǎn)磁化下的損耗要比交變磁化下的損耗大。本文提出了基于磁密軌跡的電機(jī)鐵耗計(jì)算模型,它只采用較容易獲得的交變磁化損耗系數(shù),但又能顧及到旋轉(zhuǎn)磁化帶來的影響。通過實(shí)際電機(jī)的計(jì)算和測(cè)試,表明軌跡法的計(jì)算結(jié)果在未經(jīng)任何系數(shù)修正的情況下就具有很好的精度,適合推廣使用。 軟磁復(fù)合材料是一種新型的粉末金屬材料,它具有渦流損耗小和易制造成具有復(fù)雜結(jié)構(gòu)電機(jī)等特點(diǎn)。為了探索這種材料在高頻領(lǐng)域中的應(yīng)用和驗(yàn)證本文提出的鐵耗計(jì)算模型,本文成功地設(shè)計(jì)和制造了一臺(tái)采用軟磁復(fù)合材料的爪極式永磁電機(jī),由于結(jié)構(gòu)復(fù)雜,本文通過三維有限元分析,對(duì)該電機(jī)的磁通、磁鏈、電感、轉(zhuǎn)矩和鐵耗等參數(shù)和性能的計(jì)算提出了計(jì)算方法。對(duì)該種電機(jī)的熱分析,本文提出了熱網(wǎng)絡(luò)法和磁熱耦合有限元法。由于鐵耗在高速電機(jī)總損耗中占有很大比例,因此在有限元方法中,本文通過映射剖分法,使磁場(chǎng)和熱場(chǎng)模型中的單元總數(shù)、大小和順序保持完全一致,軌跡法計(jì)算得到的各單元鐵耗直接耦合進(jìn)熱場(chǎng)進(jìn)行計(jì)算,得到了電機(jī)準(zhǔn)確的溫度分布。本文還進(jìn)行了高速電機(jī)轉(zhuǎn)子的模態(tài)分析,合理地調(diào)整轉(zhuǎn)子的直徑、長(zhǎng)度和軸承位置,使轉(zhuǎn)子的自然共振頻率遠(yuǎn)離電機(jī)的工作頻率范圍。本文構(gòu)建了一測(cè)試平臺(tái)對(duì)樣機(jī)進(jìn)行了發(fā)電機(jī)狀態(tài)測(cè)試,并通過假轉(zhuǎn)子法測(cè)量了電機(jī)鐵耗,實(shí)驗(yàn)結(jié)果證明了本文所用方法的可行性,得到的結(jié)論對(duì)軟磁復(fù)合材料的應(yīng)用及爪極式電機(jī)的設(shè)計(jì)與分析都具有很好的參考價(jià)值。

    標(biāo)簽: 鐵磁 材料 損耗

    上傳時(shí)間: 2013-06-27

    上傳用戶:hjshhyy

  • 靜電梳齒結(jié)構(gòu)的MEMS分析和優(yōu)化設(shè)計(jì).rar

    微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)器件的構(gòu)成涉及微電子、微機(jī)械、微動(dòng)力、微熱力、微流體學(xué)、材料、物理、化學(xué)、生物等多個(gè)領(lǐng)域,形成了多能量域并交叉耦合。為其產(chǎn)品的建模、仿真以及優(yōu)化設(shè)計(jì)帶來了較大的難度。由于靜電驅(qū)動(dòng)的原理簡(jiǎn)單使其成為MEMS器件中機(jī)械動(dòng)作的主要來源。而梳齒結(jié)構(gòu)在MEMS器件中有廣泛的應(yīng)用:微諧振器、微機(jī)械加速度計(jì)、微機(jī)械陀螺儀、微鏡、微鑷、微泵等。所以做為MEMS的重要驅(qū)動(dòng)方式和結(jié)構(gòu)形式,靜電驅(qū)動(dòng)梳齒結(jié)構(gòu)MEMS器件的耦合場(chǎng)仿真分析以及優(yōu)化設(shè)計(jì)對(duì)MEMS的開發(fā)具有很重要的意義。本課題的研究對(duì)靜電驅(qū)動(dòng)梳齒結(jié)構(gòu)MEMS器件的設(shè)計(jì)具有較大的理論研究意義。 本文的研究工作主要包括以下幾個(gè)方面: 1、采用降階宏建模技術(shù)快速求解靜電梳齒驅(qū)動(dòng)器靜電-結(jié)構(gòu)耦合問題,降階建模被用于表示微諧振器的靜態(tài)動(dòng)態(tài)特性。論文采用降階建模方法詳細(xì)分析了靜電梳齒驅(qū)動(dòng)器的各參數(shù)對(duì)所產(chǎn)生靜電力以及驅(qū)動(dòng)位移的關(guān)系;并對(duì)靜電梳齒驅(qū)動(dòng)器梳齒電容結(jié)構(gòu)的靜電場(chǎng)進(jìn)行分析和模擬,深入討論了邊緣效應(yīng)的影響;還對(duì)微諧振器動(dòng)態(tài)特性的各個(gè)模態(tài)進(jìn)行仿真分析,并計(jì)算分析了前六階模態(tài)的頻率和諧振幅值。仿真結(jié)果表明降階建模方法能夠快速、準(zhǔn)確地實(shí)現(xiàn)多耦合域的求解。 2、從系統(tǒng)角度出發(fā)考慮了各個(gè)子系統(tǒng)對(duì)叉指式微機(jī)械陀螺儀特性的影響,系統(tǒng)詳細(xì)地分析了與叉指狀微機(jī)械陀螺儀性能指標(biāo)-靈敏度密切相關(guān)的結(jié)構(gòu)特性、電子電路、加工工藝和空氣阻尼,并在此分析的基礎(chǔ)上建立了陀螺的統(tǒng)一多學(xué)科優(yōu)化模型并對(duì)其進(jìn)行多學(xué)科優(yōu)化設(shè)計(jì)。將遺傳算法和差分進(jìn)化算法的全局尋優(yōu)與陀螺儀系統(tǒng)級(jí)優(yōu)化相結(jié)合,證實(shí)了遺傳算法和差分進(jìn)化算法在MEMS系統(tǒng)級(jí)優(yōu)化中的可行性,并比較遺傳算法和差分進(jìn)化算法的優(yōu)化結(jié)果,差分進(jìn)化算法的優(yōu)化結(jié)果較大地改善了器件的性能。 3、從系統(tǒng)角度出發(fā)考慮了各個(gè)子系統(tǒng)對(duì)梳齒式微加速度計(jì)特性的影響,在對(duì)梳齒式微加速度計(jì)各個(gè)學(xué)科的設(shè)計(jì)要素進(jìn)行分析的基礎(chǔ)上,對(duì)各個(gè)子系統(tǒng)分別建立相對(duì)獨(dú)立的優(yōu)化模型,采用差分進(jìn)化算法和多目標(biāo)遺傳算法對(duì)其進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì)。證實(shí)了差分進(jìn)化算法和多目標(biāo)遺傳算法對(duì)多個(gè)子系統(tǒng)耦合的系統(tǒng)級(jí)優(yōu)化的可行性,并比較了將多目標(biāo)轉(zhuǎn)換為單目標(biāo)進(jìn)行優(yōu)化和采用多目標(biāo)進(jìn)行優(yōu)化的區(qū)別和結(jié)果,優(yōu)化結(jié)果使器件的性能得到了改善。

    標(biāo)簽: MEMS 靜電

    上傳時(shí)間: 2013-05-15

    上傳用戶:zhangjinzj

  • 有機(jī)電致發(fā)光顯示器件新型封裝技術(shù)及材料的研究.rar

    有機(jī)發(fā)光顯示器件(OrganicLight-EmittingDiodes,OLEDs)作為下一代顯示器倍受關(guān)注,它具有輕、薄、高亮度、快速響應(yīng)、高清晰度、低電壓、高效率和低成本等優(yōu)點(diǎn),完全可以媲美CRT、LCD、LED等顯示器件。作為全固化顯示器件,OLED的最大優(yōu)越性是能夠與塑料晶體管技術(shù)相結(jié)合實(shí)現(xiàn)柔性顯示,應(yīng)用前景非常誘人。OLED如此眾多的優(yōu)點(diǎn)和廣闊的商業(yè)前景,吸引了全球眾多研究機(jī)構(gòu)和企業(yè)參與其研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化。然而,OLED也存在一些問題,特別是在發(fā)光機(jī)理、穩(wěn)定性和壽命等方面還需要進(jìn)一步的研究。要達(dá)到這些目標(biāo),除了器件的材料,結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)外,封裝也十分重要。 本論文的主要工作是利用現(xiàn)有的材料,從綠光OLED器件制作工藝、發(fā)光機(jī)理,結(jié)構(gòu)和封裝入手,首先,探討了作為陽(yáng)極的ITO玻璃表面處理工藝和ITO玻璃的光刻工藝。ITO表面的清潔程度嚴(yán)重影響著光刻質(zhì)量和器件的最終性能;ITO表面經(jīng)過氧等離子處理后其表面功函數(shù)增大,明顯提高了器件的發(fā)光亮度和發(fā)光效率。 其次,針對(duì)光刻、曝光工藝技術(shù)進(jìn)行了一系列相關(guān)實(shí)驗(yàn),在光刻工藝中,光刻膠的厚度是影響光刻質(zhì)量的一個(gè)重要因素,其厚度在1.2μm左右時(shí),光刻效果理想。研究了OLED器件陰極隔離柱成像過程中的曝光工藝,摸索出了最佳工藝參數(shù)。 然后采用以C545T作為綠光摻雜材料制作器件結(jié)構(gòu)為ITO/CuPc(20nm)/NPB(100nm)/Alq3(80nm):C545T(2.1%摻雜比例)/Alq3(70nm)/LiF(0.5nm)/Al(1,00nm)的綠光OLED器件。最后基于以上器件采用了兩種封裝工藝,實(shí)驗(yàn)一中,在封裝玻璃的四周涂上UV膠,放入手套箱,在氮?dú)獗Wo(hù)氣氛下用紫外冷光源照射1min進(jìn)行一次封裝,然后取出OLED片,在ITO玻璃和封裝玻璃接口處涂上UV膠,真空下用紫外冷光源照射1min,固化進(jìn)行二次封裝。實(shí)驗(yàn)二中,在各功能層蒸鍍完成后,又在陰極的外面蒸鍍了一層薄膜封裝層,然后再按實(shí)驗(yàn)一的方法進(jìn)行封裝。薄膜封裝層的材料分別為硒(Se)、碲(Te)、銻(Sb)。分別對(duì)兩種封裝工藝器件的電流-電壓特性、亮度-電壓特性、發(fā)光光譜及壽命等特性進(jìn)行了測(cè)試與討論。通過對(duì)比,研究發(fā)現(xiàn)增加薄膜封裝層器件的壽命比未加薄膜封裝層器件壽命都有所延長(zhǎng),其中,Se薄膜封裝層的增加將器件的壽命延長(zhǎng)了1.4倍,Te薄膜封裝層的增加將器件的壽命延長(zhǎng)了兩倍多,Sb薄膜封裝層的增加將器件的壽命延長(zhǎng)了1.3倍,研究還發(fā)現(xiàn)薄膜封裝層基本不影響器件的電流-電壓特性、色坐標(biāo)等光電性能。最后,分別對(duì)三種薄膜封裝層材料硒(Se)、碲(Te)、銻(Sb)進(jìn)行了研究。

    標(biāo)簽: 機(jī)電 發(fā)光 顯示器件

    上傳時(shí)間: 2013-07-11

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