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流技術(shù)(shù)

  • ESD Protection in CMOS ICs

    在互補(bǔ)式金氧半(CMOS)積體電路中,隨著量產(chǎn)製程的演進(jìn),元件的尺寸已縮減到深次微 米(deep-submicron)階段,以增進(jìn)積體電路(IC)的性能及運(yùn)算速度,以及降低每顆晶片的製造 成本。但隨著元件尺寸的縮減,卻出現(xiàn)一些可靠度的問題。 在次微米技術(shù)中,為了克服所謂熱載子(Hot-Carrier)問題而發(fā)展出 LDD(Lightly-Doped Drain) 製程與結(jié)構(gòu); 為了降低 CMOS 元件汲極(drain)與源極(source)的寄生電阻(sheet resistance) Rs 與 Rd,而發(fā)展出 Silicide 製程; 為了降低 CMOS 元件閘級(jí)的寄生電阻 Rg,而發(fā)展出 Polycide 製 程 ; 在更進(jìn)步的製程中把 Silicide 與 Polycide 一起製造,而發(fā)展出所謂 Salicide 製程

    標(biāo)簽: Protection CMOS ESD ICs in

    上傳時(shí)間: 2020-06-05

    上傳用戶:shancjb

  • 高速電路設(shè)計(jì) 詳細(xì)基礎(chǔ)理論知識(shí)

    設(shè)計(jì)高速電路必須考慮高速訊 號(hào)所引發(fā)的電磁干擾、阻抗匹配及串音等效應(yīng),所以訊號(hào)完整性 (signal  integrity)將是考量設(shè)計(jì)電路優(yōu)劣的一項(xiàng)重要指標(biāo),電路日異複雜必須仰賴可 靠的軟體來幫忙分析這些複雜的效應(yīng),才比較可能獲得高品質(zhì)且可靠的設(shè)計(jì), 因此熟悉軟體的使用也將是重要的研究項(xiàng)目之一。另外了解高速訊號(hào)所引發(fā)之 各種效應(yīng)(反射、振鈴、干擾、地彈及串音等)及其克服方法也是研究高速電路 設(shè)計(jì)的重點(diǎn)之一。目前高速示波器的功能越來越多,使用上很複雜,必須事先 進(jìn)修學(xué)習(xí),否則無法全盤了解儀器之功能,因而無法有效發(fā)揮儀器的量測(cè)功能。 其次就是高速訊號(hào)量測(cè)與介面的一些測(cè)試規(guī)範(fàn)也必須熟悉,像眼圖分析,探針 效應(yīng),抖動(dòng)(jitter)測(cè)量規(guī)範(fàn)及高速串列介面量測(cè)規(guī)範(fàn)等實(shí)務(wù)技術(shù),必須充分 了解研究學(xué)習(xí),進(jìn)而才可設(shè)計(jì)出優(yōu)良之教學(xué)教材及教具。

    標(biāo)簽: 高速電路

    上傳時(shí)間: 2021-11-02

    上傳用戶:jiabin

  • 第三代半導(dǎo)體GaN功率開關(guān)器件的發(fā)展現(xiàn)狀及面臨的挑戰(zhàn)

    作者:何亮,劉揚(yáng)論文摘要:氮 化 鎵 (G a N )材 料 具 有 優(yōu) 異 的 物 理 特 性 ,非 常 適 合 于 制 作 高 溫 、高 速 和 大 功 率 電 子 器 件 ,具 有 十 分 廣 闊 的 市場(chǎng)前景 。 S i襯 底 上 G a N 基 功 率 開 關(guān) 器 件 是 目 前 的 主 流 技 術(shù) 路 線 ,其 中 結(jié) 型 柵 結(jié) 構(gòu) (p 型 柵 )和 共 源 共 柵 級(jí) 聯(lián) 結(jié) 構(gòu) (C asco de)的 常 關(guān) 型 器 件 已 經(jīng) 逐 步 實(shí) 現(xiàn) 產(chǎn) 業(yè) 化 ,并 在 通 用 電 源 及 光 伏 逆 變 等 領(lǐng) 域 得 到 應(yīng) 用 。但 是 鑒 于 以 上 兩 種 器 件 結(jié) 構(gòu) 存 在 的 缺 點(diǎn) ,業(yè) 界 更 加 期 待 能 更 充 分 發(fā) 揮 G a N 性能的 “ 真 ” 常 關(guān) M 0 S F E T 器件。而 GaN M 0 S F E T 器件的全面實(shí)用 化 ,仍 然 面 臨 著 在 材 料 外 延 方 面 和 器 件 穩(wěn) 定 性 方 面 的 挑 戰(zhàn) 。

    標(biāo)簽: 第三代半導(dǎo)體 GaN 功率開關(guān)器件

    上傳時(shí)間: 2021-12-08

    上傳用戶:XuVshu

  • 注塑用無流道模具

    注塑用無流道模具

    標(biāo)簽: 模具

    上傳時(shí)間: 2013-04-15

    上傳用戶:eeworm

  • 晶閘管變流技術(shù)應(yīng)用圖集

    晶閘管變流技術(shù)應(yīng)用圖集

    標(biāo)簽: 晶閘管 變流技術(shù) 圖集

    上傳時(shí)間: 2013-06-19

    上傳用戶:eeworm

  • 流密碼學(xué)及其應(yīng)用

    流密碼學(xué)及其應(yīng)用

    標(biāo)簽: 流密碼

    上傳時(shí)間: 2013-07-07

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  • 電子工程手冊(cè)系列叢書 二極管、閘流晶體管實(shí)用手冊(cè)

    電子工程手冊(cè)系列叢書 二極管、閘流晶體管實(shí)用手冊(cè)

    標(biāo)簽: 電子工程 二極管 實(shí)用手冊(cè)

    上傳時(shí)間: 2013-06-07

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  • 晶閘管變流技術(shù)題例及電路設(shè)計(jì)

    晶閘管變流技術(shù)題例及電路設(shè)計(jì)

    標(biāo)簽: 晶閘管 變流技術(shù) 題例 電路設(shè)計(jì)

    上傳時(shí)間: 2013-06-21

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  • 二極管、閘流晶體管實(shí)用手冊(cè)

    二極管、閘流晶體管實(shí)用手冊(cè)

    標(biāo)簽: 二極管 晶體管 實(shí)用手冊(cè)

    上傳時(shí)間: 2013-04-15

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  • 晶閘管變流技術(shù)應(yīng)用圖集

    晶閘管變流技術(shù)應(yīng)用圖集

    標(biāo)簽: 晶閘管 變流技術(shù) 圖集

    上傳時(shí)間: 2013-07-08

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