完整講解芯片的制造過程:溫洗、光刻、離子注入、干蝕刻、溫蝕刻、等離子沖洗、熱處理、化學氣相淀積等
標簽: 芯片設計
上傳時間: 2021-11-15
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恒流源(vCCS)的研究歷經數十年,從早期的晶體管恒流源到現在的集成電路恒流源恒定電流在各個領域的廣泛使用激發起人們對恒流源的研究不斷深入和多樣化。穩恒電流在加速器中的使用是加速器結構改善的一個標志。從早期的單一依靠磁場線圈到加入勻場環,到校正線圈的使用,束流輸運系統的改進有效地提高了束流的品質,校正線圈是光刻于印制電路板上的導線圈,將其按照方位角放置在加速腔內,通電后,載流導線產生的橫向磁場就可以起到校正偏心束流的作用。顯然,穩定可調的恒流源是校正線圈有效工作的必要條件。針對現在加速粒子能量的提高,對校正線圈提出了新的供電需求,本文就這一需求研究了基于功率運算放大器的兩種壓控恒流源,為工程應用做技術儲備。1設計思路用于校正線圈的恒流源供聚焦和補償時使用輸出功率不大,但要求調節精度高,穩定性好,紋波小。具體技術參數為:輸出電流0~5A調節范圍0.1~5.0A;調節精度5mA;負載電阻35;紋波穩定度優于1(相對5A);基準電壓模塊型號為REFo1而常用作恒流電源的電真空器件穩定電流建立時間長,場效應管夾斷電壓高、擊穿電壓低恒流區域窄,因此,我們選取了體積小效率高電流調節范圍寬的放大器恒流源作為研究方向實驗基本的設計思路是通過電源板將市電降壓、整流、濾波后送入高精度電壓基準源得到直流電壓,輸入功率運算放大器,在輸出端得到放大的電流輸出,如圖1所示。
標簽: 運算放大器
上傳時間: 2022-04-24
上傳用戶:xsr1983
為滿足激光測距領域大量程、高精度、高分辨率的應用需求,設計了一種高精度脈沖激光測距系統。系統基于最小可分辨45ps的專用計時芯片 TDC-GP22實現高精度、高分辨率的時間間隔測量,并 采 用 高 帶 寬 放 大 電 路 及 恒 比 定 時 時 刻 鑒 別 方 法 提 高 系 統 精 度。詳 細 論 述 了TDC-GP22時間間隔測量模塊的硬件設計及軟件流程。實驗結果表明,該系統的測量分辨率達45ps,對時間間隔1μs內的測量精度可達60ps,對應150m 測距精度可達1cm;對時間間隔1μs以上的測量精度可達1ns,對應千米級測距精度可達0.15m,滿足高精度距離測量的應用需求。
標簽: 激光測距系統
上傳時間: 2022-05-03
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主要功能:可以把圖片的每個點陣像素轉換坐標和灰度數據發給單片機,單片機根據不同的灰度值控制激光實現灰度打??!可以把圖片經過抖動算法處理后再發給單片機。這種模式雕刻速度非常快!不懂可以百度【圖像抖動算法】??梢园褕D片轉換成G代碼發送給單片機速度也很快!這種就是普通的 Arduino 雕刻機的功能。抖動算法和G代碼結合方式,可以把兩者的優勢都發揮出來【原創設計】,就是先把圖片的 大面積黑色區域 提取出來用G代碼雕刻,然后在把剩下的部分用抖動算法處理后雕刻。既能保證速度又可以保留圖像的細節!還可以直接導入G代碼文件來刻!
上傳時間: 2022-06-14
上傳用戶:qingfengchizhu
在馬達控制類應用中,正交編碼器可以反饋馬達的轉子位置及轉速信號.TM32F10x系列MCU集成了正交編碼器接口,增量編碼器可與MCU直接連接而無需外部接口電路。該應用筆記詳細介紹了STM32F1Ox與正交編碼器的接口,并附有相應的例程,使用戶可以很快地掌握其使用方法.1正交編碼器原理正交編碼器實際上就是光電編碼器,分為增量式和絕對式,較其它檢測元件有直接輸出數字量信號,慣量低,低噪聲,高精度,高分辨率,制作簡便,成本低等優點。增量式編碼器結構簡單,制作容易,一般在碼盤上刻A.B.Z三道均勻分布的刻線,由于其給出的位置信息是增量式的,當應用于伺服領域時需要初始定位格雷碼絕對式編碼器一般都做成循環二進制代碼,碼道道數與二進制位數相同。格富碼絕對式編碼器可直接輸出轉子的絕對位置,不需要測定初始位置,但其工藝復雜、成本高,實現高分辨率、高精度較為困難。本文主要針對增量式正交編碼器,它產生兩個方波信號A和B,它們相差+-90.其符號由轉動方向決定。如下圖所示:圖1:增量式正交編碼器輸出信號波形2 STM32F10x正交編碼器接口詳述STM32F10x的所有通用定時器及高級定時器都集成了正交編碼器接口,定時器的兩個輸入TII和TI2直接與增量式正交編碼器接口,當定時器設為正交編碼器模式時,這兩個信號的邊沿作為計數器的時鐘,而正交編碼器的第三個輸出(機械零位),可連接外部中斷口來觸發定時器的計數器復位.
上傳時間: 2022-06-18
上傳用戶:zhanglei193
咱們不要再抱怨沒地方找電路板了, 當我們的DIY 因為某個零件而受阻的時候, 我們應該考慮的是DIY這個零件!是不是又在檢修用萬能板搭出的電路?是不是苦于萬能板搭不出自己想要的電路、布局?對于當今廣大電子愛好者來說,萬能板已經不能滿足制作的需求,但是找廠家做PCB樣板又不太劃算, 幾十元錢一塊板,, 那就沒有辦法了么?感光板成本低廉, 制作方便, 可以輕易搭建出復雜的電路甚至是貼片電路,精度高??傊?,方便,實用,是感光電路板的優勢所在!馬上就以最簡單的20 顆“草帽” LED 并聯電路來示范一下,教教大家如何發揮感光板的優勢——整潔,方便,好用!1 材料和工具○ 感光電路板 x1 塊○ 三氯化鐵 x1 瓶,或者環保蝕刻劑x1 包○ 感光板顯影劑 x1 包○ 透明膠 x1 卷○ 鉛筆 x1● 臺燈 x1● 玻璃片(越厚越好) x1● 塑料盆或保鮮盒 x1(注意一定是塑料的啊!?。?美工刀 x1● 鋼尺 x1● 電子稱或天平 x1(除非你想一次把所有藥品用完)● 秒表,手表,鐘,能計時就行● 平頭鑷子 x1● 電鉆,臺鉆,能打孔的就行了。注意要用細鉆頭! 0.8mm左右合適。
標簽: 電路板DIY
上傳時間: 2022-06-19
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一. eMMC的概述eMMC (Embedded MultiMedia Card) 為MMC協會所訂立的內嵌式存儲器標準規格,主要是針對手機產品為主。eMMC的一個明顯優勢是在封裝中集成了一個控制器, 它提供標準接口并管理閃存, 使得手機廠商就能專注于產品開發的其它部分,并縮短向市場推出產品的時間。這些特點對于希望通過縮小光刻尺寸和降低成本的NAND供應商來說,具有同樣的重要性。二. eMMC的優點eMMC目前是最當紅的移動設備本地存儲解決方案,目的在于簡化手機存儲器的設計,由于NAND Flash 芯片的不同廠牌包括三星、KingMax、東芝(Toshiba) 或海力士(Hynix) 、美光(Micron) 等,入時,都需要根據每家公司的產品和技術特性來重新設計,過去并沒有哪個技術能夠通用所有廠牌的NAND Flash 芯片。而每次NAND Flash 制程技術改朝換代,包括70 納米演進至50 納米,再演進至40 納米或30 納米制程技術,手機客戶也都要重新設計, 但半導體產品每1 年制程技術都會推陳出新, 存儲器問題也拖累手機新機種推出的速度,因此像eMMC這種把所有存儲器和管理NAND Flash 的控制芯片都包在1 顆MCP上的概念,逐漸風行起來。eMMC的設計概念,就是為了簡化手機內存儲器的使用,將NAND Flash 芯片和控制芯片設計成1 顆MCP芯片,手機客戶只需要采購eMMC芯片,放進新手機中,不需處理其它繁復的NAND Flash 兼容性和管理問題,最大優點是縮短新產品的上市周期和研發成本,加速產品的推陳出新速度。閃存Flash 的制程和技術變化很快,特別是TLC 技術和制程下降到20nm階段后,對Flash 的管理是個巨大挑戰,使用eMMC產品,主芯片廠商和客戶就無需關注Flash 內部的制成和產品變化,只要通過eMMC的標準接口來管理閃存就可以了。這樣可以大大的降低產品開發的難度和加快產品上市時間。eMMC可以很好的解決對MLC 和TLC 的管理, ECC 除錯機制(Error Correcting Code) 、區塊管理(BlockManagement)、平均抹寫儲存區塊技術 (Wear Leveling) 、區塊管理( Command Managemen)t,低功耗管理等。eMMC核心優點在于生產廠商可節省許多管理NAND Flash 芯片的時間,不必關心NAND Flash 芯片的制程技術演變和產品更新換代,也不必考慮到底是采用哪家的NAND Flash 閃存芯片,如此, eMMC可以加速產品上市的時間,保證產品的穩定性和一致性。
標簽: emmc
上傳時間: 2022-06-20
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本文主要超薄芯片的背面金屬化中的一些問題,闡述了兩種主要的背面金屬化工藝的建立,并解決了這兩個工藝中關鍵問題,使得工藝獲得好的成品率,提高了產品的可靠性,實現了大規模量產。流程(一)介紹了一種通過技術轉移在上海先進半導體制造有限公司(ASMC)開發的一種特殊工藝,工藝采用特殊背面去應力工藝,通過機械應力和背銀沾污的控制,將背面金屬和硅片的黏附力和金硅接觸電阻大大改善。論文同時闡述了一種自創的檢驗黏附力的方法,通過這種方法的監控,大幅度提高了產品良率,本論文的研究課題來源于企業的大規模生產實踐,對于同類的低壓低導通電阻VDMOS產品有實用的參考意義。流程(二)討論了在半導體器件中應用最為廣泛的金-硅合金工藝的失效模式及其解決辦法。并介紹了我公司獨創的刻蝕-淀積-合金以及應力控制同時完成的方案。通過這種技術,使得金硅合金質量得到大步的提升,并同時大大減少了背金工藝中的碎片問題,為企業獲得了很好的效益。
上傳時間: 2022-06-26
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基于Proteus仿真前言:本文詳細介紹了DS18B20原理,并在后面舉例說明了其在單片機中的應用,所舉例子包含Proteus仿真電路圖,源程序,程序注釋詳細清楚。1、DS18B20簡介:DS18B20溫度傳感器是DALLAS公司生產的1-wire式單總線器件,具有線路簡單,體積小的特點,用它組成的溫度測量系統線路非常簡單,只要求一個端口即可實現通信。溫度測量范圍在一55℃~+125℃之間,分辨率可以從9~12位選擇,內部還有溫度上、下限報警設置。每個DS18B20芯片都有唯一的序列號,所以可以利用多個DS18B20同時連接在同一條總線上,組成多點測溫系統。但最多只能連接8個,如果數量過多,會使供電電源電壓過低,從而造成信號傳輸的不穩定。2、DS18B20結構:如右圖所示,DS18B20有三只引腳,VCC、DQ和GND。DQ為數字信號輸入/輸出端(DQ一般接控制器(單片機)的一個1/0口上,由于單總線為開漏所以需要外接一個4.7K的上拉電阻);GND為電源地;VDD為外接供電電源輸入端(在寄生電源接線方式時接地)。DS18B20內部結構主要由四部分組成:64位光刻ROM、溫度傳感器、非揮發的溫度報警觸發器TH和TL、配置寄存器。光刻ROM中的64位序列號是出廠前被光刻好的,它可以看作是該DS18B20的地址序列碼。64位光刻ROM的排列是:開始8位是產品類型標號,接著的48位是該DS1B20自身的序列號,最后8位是前面56位的CRC校驗碼(循環冗余校驗碼)。光刻ROM的作用是使每一個DS18B20都各不相同,這樣就可以實現一根總線上掛接多個DS18B20的目的。溫度傳感器可完成對溫度的測量,以12位轉化為例,用16位符號擴展的二進制補碼讀數形式提供。
上傳時間: 2022-07-02
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本書集作者多年來的實踐經驗與研究成果,系統地介紹了微納米加工技術的基礎,包括光學曝光技術、電子束曝光技術、聚焦離子束加工技術、X射線曝光技術、各種刻蝕技術和微納米尺度的復制技術,對各種加工技術著重講清原理,列舉基本的工藝步驟,說明各種工藝條件的由來,并注意給出典型上藝參數,充分分析了各種技術的優缺點及在應用過程過程中的注意事項,全書強調實用,避免煩瑣的數學分析,既注重基礎知識又兼顧微納米加工領域近年來的最新進展及在各高科技鎖域的應用,并列舉了相關參考文獻供進一步深入研究,因此不論是對初次涉足這一領域的大專院校的本科生或研究生,還是對已經有一定工作經驗的專業科技人員,都具有很好的參考價值。
標簽: 微納米加工技術
上傳時間: 2022-07-10
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